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- 单靶磁控溅射仪
- 单靶磁控溅射仪
- 单靶磁控溅射仪主要特点：
1、可选一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜，应用广泛。
3、体积小，操作简便。
技术参数：产品名称 VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪 产品型号 VTC-600-1HD 安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水） 2、电：AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上）,需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀 4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通风装置：需要 主要参数 1、电源电压：220V 50Hz 2、功率：<1KW（不含真空泵） 3、极限真空度：9.0×10-4Pa 4、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度） 5、靶枪数量：1个（可选配其他数量） 6、靶枪冷却方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同） 8、直流溅射功率：500W;射频溅射功率：300W.（靶电源种类可选,可选择直流或射频电源） 9、载样台：Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。 10、载样台转速：1rpm-20rpm内可调 11、工作气体：Ar等惰性气体 12、进气气路：质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。 产品规格 1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、重量：160kg 4、真空室规格：φ300×300mm 标准配件 1、直流电源控制系统1套（可选） 2、射频电源控制系统1套（可选） 3、冷水机1台 4、冷却水管（Ø6mm）4根 可选配件 1、金、铟、银、白金等各种靶材 2、膜厚监测仪系统 3、分子泵（德国进口）