- 双靶高真空磁控溅射仪
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双靶高真空磁控溅射仪
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。
主
要
特
点
•体积小,操作简便
•真空腔室、真空泵组整机模块化设计,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
•可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系我公司销售。基
本
参
数
●输入电源:220V AC 50/60Hz
●功率:<2KW(包含真空泵)
●溅射电源:安装有两个溅射电源:
●直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
●射频(RF)电源:300W,可制作氧化物和金属膜真空腔体:
●真空腔体:φ300 mm x 300 mm H,采用不锈钢制作
●观察窗口:φ100 mm
●腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易气体流量控制器:
●仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm
●气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
●此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)真空系统:
●配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)
●标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar(仅供参考,详情请点击)薄膜测厚仪(可选):
●一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
●LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据产品尺寸:L 1300mm× W 660mm× H 1200mm
净重:160 kg
磁控溅射头:
●仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层
●一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
●另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
●靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
●可以单独订购RF连接线作为备用
●设备包含一台水冷机,用于靶头冷却载样台:
●载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
●载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
●载样台最高可加热温度为500℃