产品展示更多>>
- 小型滑动PECVD管式炉系统
- 小型滑动PECVD管式炉系统
产品特点:
•一射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度;
•可通过炉体滑动达到快速升温和降温;
•可通过射频电源的频率来控制薄膜的应力;
•可通过工艺调节来控制化学计量;
•可沉积各种材料,如SiOx,SiNx,SiOxNy和(a-Si:H)等。
加热炉参数:
•最高温度:1100℃(<30min):连续工作温度:1000℃:
•PID溫度控制器及30段可編程温控系统,控瀝精度:±1℃;
•输入电源:208- 240V AC,功率:1.2KW:
•炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤維,并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可以提高加热效率,反射率及延长仪器的使用寿命
射频电源:
真空系统:
•·采用TRP-12的双旋真空泵;
• KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵;
•真空度可达10-2Torr。
供气系统(可选):
•客户可选购四通道质子流量计控制系统实现气体流量的精确控制(精确度:±0.02%);
•流量范围:
•电压:208-240V, AC, 50/60Hz;
•气体进出口配件:6mm OD的聚四氟管或不锈钢管;
•不锈钢针阀用于手动控制气体进出;
• PLC触摸屏可以简便地进行气体流量设置。
产品尺寸和重量:
•尺寸:1500mm L'600mm W^1200mm H
•·净重:160 kg
•运输重量:220 kg
质保:
一年保质期,终身维护,不包括炉管,硅胶密封圈和加热元件