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- 2单靶直流磁控溅射仪
- 2单靶直流磁控溅射仪
- VTC-16-SM是一款桌面式等离子磁控溅射镀膜仪，包含一个2英寸水冷靶头和可旋转样品台，外形小巧，性价比高，是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备，可选配各种金属靶材和真空泵。
用直流磁控溅射仪可获得单相Al膜
技术参数输入电压 AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz 输入功率 < 2000W 输出功率 电压：1600VDC;大电流：150mA 腔体 石英腔体：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height 2英寸带水冷磁控溅射头 溅射头和样品台 一个直径50mm不锈钢样品台,样品台可旋转,旋转速率0 - 5 RPM 配有一手动操作的挡板，包含靶头支撑架 样品台和靶头之间的距离可以调节，调节范围：60-100mm 控制面板 6" PLC集成触摸屏控制面板，可控制真空、电流、靶材位置和基片加热温度 双极旋片真空泵VRD-8，KF25接口 附件（可选） KF25不锈钢波纹管 10L/min 循环水冷机冷却磁控靶头 气氛 含一个控制进气的针阀和一个放气阀 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm 靶材 适合溅射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金属，可选购 可选配件 膜厚监测仪 分子泵，可获得高真空， >10E-5 torr 为获得好的薄膜强度，建议镀膜前用等离子清洗机对基片进行清洗。 500度样品加热台 体积 ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 净重 20 kg ( not included pump ) 质保和证书 一年质保，终生维护 CE认证 磁控溅射镀膜知识 与客户分享新的磁控溅射镀膜技术，请点击文章链接- Plasma Sputter Coating.