技术文章更多>>
- CVD气相沉积的高温分解反应过程和特点说明
- 点击次数：1839 更新时间：2023-06-27
- CVD气相沉积是一种生产高质量固体薄膜和涂层的强大技术。尽管已广泛用于现代工业中，但由于它已适应新材料，因此仍正在不断发展中。如今，通过精确制造2D材料的无机薄膜和可以共形沉积在各种基材上的高纯度聚合物薄膜，CVD合成技术正被推向新的高度。
CVD气相沉积的高温分解反应：
CVD沉积反应里简单直接的方式就是热分解反应，其原理主要是固态化合物升温到一定温度会分解为固态目标产物和气态副产物。操作步骤一般是向真空或惰性气氛下的单温区管式炉导入反应气体，将炉温升至化合物的分解温度使之发生分解，在基片上沉积得到目标产物。热分解反应的关键在于合适挥发源和分解温度的选择，尤其需要特别注意原材料在不同温度下的分解产物。
目前常使用的原料有氢化物、羰基化合物和金属有机化合物等，因其化学键的解离能都普遍较小，易分解，分解温度相对较低，尤其氢化物分解后的副产物是没有腐蚀性的氢气。热分解反应主要适用于金属、半导体、绝缘体等材料的制备。
CVD气相沉积的特点：
■采用多层隔板设计，批量处理模压光学镜片的碳镀膜工艺，每炉可放数千个镜片；
■智能化PLC程序升温程序，真空程序，CVD进气程序，操作简单方便；
■优化干式真空泵，杜绝油液污染，可选择国产干式泵和进口干式泵；
■智能化CVD进气控制系统，适应于氮气、乙炔/甲烷、氩气、空气的通入和混合；
■先进的密封系统，泄漏率低，长期使用稳定性高。